基于物理约束和设计驱动的光刻缺陷数据集生成方法
发布:2025年12月9日 06:13
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•ArXiv
分析
这项研究探索了一种创新方法，用于创建光学光刻缺陷检测的数据集，这是半导体制造的关键步骤。 研究侧重于物理约束和设计驱动的方法，这表明一种可能更准确、更有效的方法来训练用于缺陷识别的 AI 模型。
引用
“该研究侧重于生成用于光学光刻的缺陷数据集。”
话题
lithography
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