Research#Lithography🔬 Research分析: 2026年1月10日 12:39基于物理约束和设计驱动的光刻缺陷数据集生成方法发布:2025年12月9日 06:13•1分で読める•ArXiv分析这项研究探索了一种创新方法,用于创建光学光刻缺陷检测的数据集,这是半导体制造的关键步骤。 研究侧重于物理约束和设计驱动的方法,这表明一种可能更准确、更有效的方法来训练用于缺陷识别的 AI 模型。关键要点•该方法利用了物理约束的方法,表明了其基于现实世界物理原理。•它是设计驱动的,强调了实际应用和制造过程。•该研究的目的是改善缺陷数据集的生成,以便在光刻中更好地训练 AI 模型。引用“该研究侧重于生成用于光学光刻的缺陷数据集。”永久链接ArXiv