基于物理约束和设计驱动的光刻缺陷数据集生成方法

Research#Lithography🔬 Research|分析: 2026年1月10日 12:39
发布: 2025年12月9日 06:13
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ArXiv

分析

这项研究探索了一种创新方法,用于创建光学光刻缺陷检测的数据集,这是半导体制造的关键步骤。 研究侧重于物理约束和设计驱动的方法,这表明一种可能更准确、更有效的方法来训练用于缺陷识别的 AI 模型。
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"The research focuses on generating defect datasets for optical lithography."
A
ArXiv2025年12月9日 06:13
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