ASML 的 EUV 光源创新：将芯片产量提高 50%infrastructure#gpu📝 Blog|分析: 2026年2月25日 03:15•发布: 2026年2月25日 03:05•1分で読める•Gigazine分析ASML 是 EUV 光刻技术的唯一制造商，它将彻底改变半导体生产。他们在 EUV 光源技术方面的突破性进展有望大幅提高芯片产量，并有望重塑高性能计算的格局。要点•ASML 是世界上唯一生产 EUV 光刻设备的厂家，这对先进芯片制造至关重要。•他们将 EUV 光源的输出从 600 瓦特提高到 1000 瓦特，并有望达到 2000 瓦特。•这项创新可能导致到 2030 年芯片产量增加 50%，从而降低成本。引用 / 来源查看原文"ASML 推出 EUV 光源的进步，到 2030 年可能会产生 50% 的芯片增量。"GGigazine2026年2月25日 03:05* 根据版权法第32条进行合法引用。较旧ASML's EUV Light Source Breakthrough: Boosting Chip Production by 50%!较新ASML's EUV Light Source Innovation Could Boost Chip Production by 50%相关分析infrastructure提升LLM效率：探索生产系统中前缀缓存2026年2月25日 04:17infrastructure超级充电 AI 智能体：处理大型数据集的新技术2026年2月25日 04:00infrastructure超级充电你的 Claude Code：用 settings.json 解锁效率！2026年2月25日 04:00来源: Gigazine