光リソグラフィにおける欠陥データセット生成のためのAI活用
公開:2025年12月9日 06:13
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•ArXiv
分析
この研究は、半導体製造の重要なステップである光リソグラフィにおける欠陥検出のためのデータセット作成に関する革新的なアプローチを探求しています。物理的な制約と設計主導の方法論に焦点を当てていることから、欠陥識別のためのAIモデルのトレーニングにおいて、より正確で効率的なアプローチとなる可能性があります。
重要ポイント
参照
“この研究は、光リソグラフィの欠陥データセットの生成に焦点を当てています。”