ASML 的 EUV 光源突破：芯片产量提升 50%！infrastructure#gpu📝 Blog|分析: 2026年2月25日 03:15•发布: 2026年2月25日 03:10•1分で読める•Gigazine分析ASML 创新的 EUV 光源技术进步有望在 2030 年前大幅提升芯片产量，从而可能降低成本并增加产量。 这一突破尤其重要，因为它可能重塑全球半导体制造业的格局。 EUV 技术的进步进一步巩固了 ASML 在这一关键领域的领导地位。要点•ASML 正在改进其 EUV 光源技术。•这可能导致到 2030 年芯片产量增加 50%。•这项进步可能会降低芯片成本。引用 / 来源查看原文"ASML 宣布 EUV 光源技术进步，到 2030 年可生产多 50% 的芯片。"GGigazine2026年2月25日 03:10* 根据版权法第32条进行合法引用。较旧Fine-tuning Triumph: Mastering Data Scaling for Peak AI Performance较新ASML's EUV Light Source Innovation: Boosting Chip Production by 50%相关分析infrastructure提升LLM效率：探索生产系统中前缀缓存2026年2月25日 04:17infrastructure超级充电 AI 智能体：处理大型数据集的新技术2026年2月25日 04:00infrastructure超级充电你的 Claude Code：用 settings.json 解锁效率！2026年2月25日 04:00来源: Gigazine