ASML 的 EUV 光源创新或将芯片产量提升 50%infrastructure#gpu📝 Blog|分析: 2026年2月25日 03:15•发布: 2026年2月25日 03:05•1分で読める•Gigazine分析ASML 作为 EUV 光刻技术的唯一制造商，在改进其光源方面取得了突破，可能大幅提高芯片产量。 这项在极紫外 (EUV) 技术上的进步是向前迈出的重要一步，有望降低半导体制造的成本并提高效率。要点•ASML 创新了其 EUV 光源。•到 2030 年，这项进步可能使芯片产量增加 50%。•这可能导致芯片生产成本降低。引用 / 来源查看原文"ASML 公布 EUV 光源进步，到 2030 年可能生产多 50% 的芯片"GGigazine2026年2月25日 03:05* 根据版权法第32条进行合法引用。较旧ASML's EUV Light Source Innovation: Boosting Chip Production by 50%较新OpenAI: AI Reshaping Engineering Roles and Supercharging Productivity相关分析infrastructure提升LLM效率：探索生产系统中前缀缓存2026年2月25日 04:17infrastructure超级充电 AI 智能体：处理大型数据集的新技术2026年2月25日 04:00infrastructure超级充电你的 Claude Code：用 settings.json 解锁效率！2026年2月25日 04:00来源: Gigazine