高スカンジウムAlScN薄膜のウェーハスケール集積

Research Paper#Materials Science, MEMS, Thin Films🔬 Research|分析: 2026年1月3日 09:27•
公開: 2025年12月30日 20:25
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分析

本論文は、MEMS製造における重要な課題、すなわち、高品質で高スカンジウム含有量のAlScN薄膜の大面積への堆積に取り組んでいます。著者は、異常な結晶成長や応力制御などの問題を克服するための成功したアプローチを実証し、優れた圧電特性を持つ均一な薄膜を実現しました。これは、MEMS技術の進歩にとって重要です。
引用・出典
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"The paper reports "exceptionally high deposition rate of 8.7 μm/h with less than 1% AOGs and controllable stress tuning" and "exceptional wafer-average piezoelectric coefficients (d33,f =15.62 pm/V and e31,f = -2.9 C/m2)"."
A
ArXiv2025年12月30日 20:25
* 著作権法第32条に基づく適法な引用です。
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