利用低能和中能离子散射探测超薄钛硅化物形成和外延

这篇文章报告了使用离子散射技术研究超薄钛硅化物形成和外延生长的研究。重点是材料科学方面，研究原子水平的结构特性。使用低能和中能离子散射表明对材料表面和界面特性的详细分析。

• •侧重于超薄钛硅化物的形成和外延生长。
• •采用低能和中能离子散射技术。
• •研究原子水平的结构特性。
• •暗示对表面和界面特性的详细分析。