聚焦场中内在的梅隆自旋纹理

这篇论文意义重大，因为它在聚焦光场中发现了一种稳健的、自然产生的自旋纹理（类似梅隆），无需外部波前工程。这种内在特性提供了对噪声和无序的卓越抵抗力，为拓扑自旋纹理提供了一种新方法，并可能增强光子应用。

• •在聚焦场中发现了一种稳健的、内在的类似梅隆的自旋纹理。
• •消除了对外部波前工程的需求。
• •对噪声和无序表现出卓越的鲁棒性。
• •为抗无序光子应用提供了新的可能性。