広帯域NIRフォトン工学のための高エントロピーペロブスカイト

公開:2025年12月30日 16:30
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ArXiv

分析

この論文は、近赤外線(NIR)用途向けの、堅牢で機能豊富なフォトニック材料を作成するための新しいアプローチを紹介しています。高エントロピーハロゲン化物ペロブスカイトを利用することにより、研究者は超広帯域NIR発光と環境安定性の向上を実証しています。この研究は、フォトニックデバイスにおける材料性能と信頼性を向上させるためのエントロピーエンジニアリングの可能性を強調しています。

参照

この論文は、エントロピー安定化格子内で元素固有の役割を統合することにより、デバイス関連の超広帯域近赤外線(NIR)フォトン工学を実証しています。