利用超快激光器的连续3D纳米光刻

本文提出了一种通过线照明时间聚焦（Line-TF TPL）方法在双光子光刻（TPL）领域取得重大进展的方法。关键创新在于能够实现具有全带宽数据流和灰度体素调整的连续3D纳米光刻，解决了现有TPL系统的局限性。这带来了更快的制造速度、消除了拼接缺陷并降低了成本，使其更适合工业应用。对具有亚衍射特征的厘米级结构的演示突出了这项研究的实际影响。

• •引入Line-TF TPL用于连续3D纳米光刻。
• •实现全带宽数据流和灰度体素调整。
• •制造具有亚衍射特征的厘米级结构。
• •消除拼接缺陷并提高制造速度。
• •降低脉冲能量需求并降低成本。
• •展示了在光子学、超材料和生物医学中的应用潜力。