超高速レーザーを用いた連続3Dナノリソグラフィー

本論文は、ライン照明時間焦点（Line-TF TPL）法を導入することにより、二光子リソグラフィー（TPL）における大きな進歩を示しています。主な革新は、フル帯域幅データストリーミングとグレースケールボクセル調整による連続3Dナノリソグラフィーを実現できることです。これにより、既存のTPLシステムの制限が解消され、より高速な製造速度、ステッチング欠陥の排除、コスト削減につながり、産業用途に適したものになります。サブ回折特性を持つセンチメートルスケールの構造のデモンストレーションは、この研究の実用的な影響を強調しています。

• •連続3DナノリソグラフィーのためのLine-TF TPLを導入。
• •フル帯域幅データストリーミングとグレースケールボクセル調整を実現。
• •サブ回折特性を持つセンチメートルスケールの構造を製造。
• •ステッチング欠陥を排除し、製造速度を向上。
• •パルスエネルギー要件を削減し、コストを削減。
• •フォトニクス、メタマテリアル、バイオメディシンへの応用可能性を実証。