ASML、EUV光源の革新でチップ生産量を最大50%増へinfrastructure#gpu📝 Blog|分析: 2026年2月25日 03:15•公開: 2026年2月25日 03:05•1分で読める•Gigazine分析ASMLは、EUVリソグラフィーを製造する唯一のメーカーとして、光源の改良にブレークスルーを起こし、チップ生産量を大幅に増やす可能性を秘めています。 この極端紫外線(EUV)技術の進歩は大きな一歩であり、半導体製造におけるコスト削減と効率向上を約束します。重要ポイント•ASMLがEUV光源を革新。•2030年までにチップ生産量を50%増加させる可能性。•これにより、チップ生産コストが削減される可能性がある。引用・出典原文を見る"ASMLが2030年までにチップ生産量を50%増加させるEUV光源の技術革新を達成"GGigazine2026年2月25日 03:05* 著作権法第32条に基づく適法な引用です。古い記事ASML's EUV Light Source Innovation: Boosting Chip Production by 50%新しい記事OpenAI: AI Reshaping Engineering Roles and Supercharging Productivity関連分析infrastructureLLMの効率化: 運用システムにおけるプレフィックスキャッシングを探求2026年2月25日 04:17infrastructureAIエージェントを最大限に活用:巨大データセットを処理するための新技術2026年2月25日 04:00infrastructureClaude Code を超進化!settings.json で効率を解き放つ!2026年2月25日 04:00原文: Gigazine