ASML EUV光源突破：芯片产量提升50%！infrastructure#gpu📝 Blog|分析: 2026年2月25日 03:00•发布: 2026年2月25日 02:50•1分で読める•Gigazine分析ASML在EUV光源技术方面的创新有望在2030年前将芯片生产能力提高50%，这对半导体行业来说是个好消息。 这一进展可能会降低生产成本，并为未来的技术进步打开大门，未来几年有望实现更高的产量。要点•ASML正在革新EUV光源，提高芯片生产能力。•这可能会导致芯片生产成本大幅下降。•未来的进步可能会达到2000瓦。引用 / 来源查看原文"ASML的EUV光源首席工程师迈克尔·珀维斯指出：“用于实现1000瓦的技术可以实现进一步的进步。通往1500瓦的道路非常清晰，我们也没有根本原因无法达到2000瓦。”"GGigazine2026年2月25日 02:50* 根据版权法第32条进行合法引用。较旧OpenAI Welcomes Arvind KC as Chief People Officer, Signaling Growth较新Tech Titans Make Waves: Xiaomi's Victory, JD.com's Yacht Venture, and Apple's Manufacturing Shift!相关分析infrastructure提升LLM效率：探索生产系统中前缀缓存2026年2月25日 04:17infrastructure超级充电 AI 智能体：处理大型数据集的新技术2026年2月25日 04:00infrastructure超级充电你的 Claude Code：用 settings.json 解锁效率！2026年2月25日 04:00来源: Gigazine